光刻胶又称“光致抗蚀剂”,作用原理是在芯片加工过程中充当抗腐蚀涂层。芯片制造过程中的光刻步骤,就如同用刀雕刻出精密图案的过程。这里的“刀”就是光线,“雕刻”就是曝光的过程。光刻胶可以与光线发生反应,使得芯片材料上出现所需的精密电路图案。光刻胶在芯片生产过程中有着举足轻重的作用。 中国某著名集成电路研发公司专注于微电子材料、传感器、物联网、高可靠性集成电路等领域。在进行光刻胶的研发过程中随着公司人员、部门和实验任务越来越多,纸质记录结合部分简易电子实验记录的一些弊端日益凸显,解决数据离散、碎片化问题,以一种更加有效、安全的方式存储数据,并实现数据价值的提升、对于突破我国光刻领域“卡脖子”问题有重要帮助。
数据易丢失:记录不及时、不完整、难追溯、易丢失
数据碎片化:数据存于不同部门,不能共享
知识产权存在风险:人员流动容易导致宝贵的经验流失
数据难挖掘:数据不能集中统一管理,未能与机器学习算法贯通
针对用户当前面临的问题,设计了如下的数据存储系统,将数据收集、整合与利用充分连通,可以有效加强数据的管理。
规范、智能、可共享的实验模板,大幅提高了实验记录撰写和制备工艺数据收集效率,实现实验和工艺过程标准化、结构化、可追溯
将离散的材料设计、制备和表征(电子实验记录)数据,清洗、整合、形成统一的材料实验数据库
数据分析+机器学习,支持对数据进行分析和可视化展示,利用随机森林、支持向量机等机器学习算法,构建材料“结构成分-工艺-性能”的关系模型,有效提升数据的再利用率
多部门协同使用,能够通过“有限隔离”来控制数据的访问,可实现数据库级别的通盘检索与权限控
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